DHF’, ‘Wet etching에 쓰이는 각종 솔루션’, ‘파티클 제거에 쓰이는 SC1, SC2’등 근로자의 환경과 안전에 악영향을 미칠 수 있는 많을 화학물질들을 사용하고 있습니다. 입사 후 위험물질에 관한 관리 및 취급법을 개선하여 구성원의 안전뿐만 아니라 반도체 공정의 이미지 쇄신에도 기여하는 삼성전자의 설비 엔지니어가 되겠습니다
[해답은 단순한 부분부터]
응용화학공학과를 다니며 제가 가진 지식을 실제 적용해보기 위해 고체전해질 개발프로젝트에 합류하였습니다. 그곳에서 약 6개월간 이온성과 플라스틱의 성질을 가진 크리스탈을 만드는 것을 목표로 잡고 합성했습니다. NMR, DSC분석을 통해 크리스탈의 성공적인 합성을 확인하였습니다. 하지만 그곳에 들어가는 재료인 이미다졸을 합성하는데 수율이 30%조차 나오지 않아 크리스탈을 합성하는데 어려움이 있었습니다. 그 동안 원하는 결과가 나오지 않으면 변수들을 바꿔 문제들을 반복실험을 통해 해결해왔습니다. 하지만 유기실험이 소요시간이 긴만큼 시간적 제한이 있었습니다. 이미다졸 합성과 관련된 영어로 된 논문을 조사한 결과, 계절이 여름인 것을 감안 하지 않고 실험하였다는 것을 알게 되었습니다. 그래서 주변 온도를 낮춰 실험 한 결과 수율을 75%까지 끌어올렸습니다.
->3개월이내 [반도체쪽이면좋을듯]
->메모리구조?
->나의 견해가 들어갈 것
->관심분야쪽
그리고 Cleaning공정에서 반도체 세정에 오염원의 종류, 용도에 따라 Chemical 사용이 달라집니다. 제가 그동안 배운 화학적 지식, 경험들로 올바르게 사용하여 먼지하나 없이 뒷마무리를 하겠습니다.