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논문 1건

[논문] 홀로그래픽 리소그래피 공정을 이용한 분광기 제작
원리 2. 홀로그래픽 리소그래피(Holographic Lithography) 시스템 구성 3. 감광제(Photoresist) 도포 조건의 도포 두께에 대한 영향 및 최적화 4. 노광시간(Exposure Time)의 영향 및 최적화 5. 실험 결과 및 고찰 Ⅲ. 실리콘 주형의 제작과 분광기의 제작 1
홀로그래픽|리소그래피|RIE|분광기|UV molding|UV imprinting|Photoresist|노광, 홀로그래픽 리소그래피 공정을 이용한 분광기 제작,
  • 페이지 26페이지
  • 가격 3,000원
  • 발행일 2010.03.05
  • 파일종류 한글(hwp)
  • 발행기관
  • 저자
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