전자공업진흥법에 의거해 실시한 일련의 전자공업육성책이었다. 1981년 제4차 전자공업육성책이 발표될 때까지 이 정책은 공업단지건설, 전자공업진흥기관 및 민간단체 통합·정비, 수출주도형 전자제품 육성 등 반도체 산업 및 관련산업의 육성을 위한 여러 지원들을 제공했다. 특히 81년 개정된 제4차 육성책에서는 종전과는 달리 전자산업부품 및 가정용기기위주의 진흥에서 벗어나 가전기기는 수출주도형으로, 산전기기는 내수주도형으로, 반도체를 국내 핵심공업으로, 전자부품은 수입대체형으로 육성한다는 새로운 정책방향을 밝히고 있다. 한국 정부는 1982년 \'반도체공업육성세부계획\'을 발표하면서 반도체 산업에 대한 구체적인 지원정책을 최초로 마련했다. 이 계획에서는 수출, 기초소재, 제품생산, 연구개발 등에서 구체적인 목표를 설정하고 각 항목에 대한 지원책을 제시하고 있으며, 각 제품별로 구체적인 개발 및 생산일정까지 계획하고 있다. 또한 이 계획에서는 웨이퍼 가공업체와 조립업체에 대한 지원을 차별화시켜 웨이퍼 가공업체에 대한 참여요건을 설정해 지나친 경쟁을 배제시키려는 노력을 보이고 있다. 이 시기 한국 반도체 산업 육성정책의 특징은 정부가 구체적인 공동개발프로그램 등을 통해 기술 하나하나에 개입하지 않고 전체적이고 종합적인 방향을 제시할 수 있는 육성계획을 바탕으로 지원을 실시했다는 것이다. 이는 미국이나 일본에서는 찾아보기 어려운 정책형태이다. 당시 종합육성계획에서는 한국 반도체 산업을 가전제품과 산전제품의 경쟁력을 높일 수 있는 수단으로 간주하고 이에 따라 발전방향을 설정하고 있다.
2. 1986년 이후
공동개발 및 집중육성기
1986년 부터 시작된 ‘VLSI 공동개발계획’은 한국의 반도체 산업 육성정책에 있어 중요한 의미를 가진다. 이전까지 종합적인 육성책에 의존하고, 가전이나 산전분야의 경쟁력을 향상시키기 위한 수단으로 취급되던 한국의 반도체 산업은 이 프로젝트를 시작으로 미국이나 일본과 같은 선진국형의 정부·업계의 공동개발 형태를 갖추게 된다. 또한 반도체 산업을 수단으로서가 아니라 목적으로 성격을 새롭게 규정하면서 정부는 한국 반도체 산업의 발전방향을 DRAM에의 집중이라고 간주하고 이에 대한 집중적인 지원과 공동개발을 수행하게 된다. 이러한 정책이 실시되게 된데에는 정부의 독자적인 상황판단과 분석도 있었지만 민간업계의 영향도 컸던 것으로 평가되고 있다. 1983년 이후 계속적으로 대규모의 투자를 한 삼성전자나 진입은 늦었지만 메모리분야에 대한 집중적인 투자로 급격한 성장을 한 현대전자 등은 한국정부가 반도체 산업내에서 발전할 수 있는 전략을 수립하는 데 큰 영향을 미쳤다. 그 결과 한국은 현재 DRAM 분야에 있어서는 개발시점이나 양산시점에 있어 거의 시차가 없을 정도의 발전을 이루었다.
그 이후 차세대 반도체 개발, G7 프로젝트 등을 통해 꾸준히 민-관 공동 프로젝트를 실시하고 있다. 한국의 반도체 산업 육성정책의 특징은 크게 두 가지로 요약할 수 있다. 첫째, 미국이나 일본의 정책과는 달리 공급측면, 수요측면, 기타지원등 수단면에서 광범위한 내용을 담고 있는 종합육성책이 여러번 세워졌다는 것이다. 예를 들면 4차에 걸친 전자공업 육성책이나 반도체공업육성계획, 반도체 산업 종합육성대책, 주문형반도체 육성계획 등이다. 이러한 종합계획들은 반도체 산업내의 특정부분에 참여하는 업체의 수까지 규정할 정도로 직접적이고 깊숙한 개입을 하는 것으로 나타났다. 두번째 특징은 수요측면에 대한 지원이 거의 나타나지 않았다는 것이다. 직접적인 반도체 제품 구매를 통한 수요측면에 대한 지원책을 폈던 미국이나 관련산업의 육성을 통해 간접적인 지원을 수행해온 일본과는 달리 한국의 경우 수요유발을 통한 지원책은 거의 찾아보기 어려웠고, 대부분 공급측면이나 기타측면에 대한 지원으로 일관했다.
참고문헌
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